和记娱乐

9月18日，首届IDAS设计自动化工业峰会在武汉盛大举行，大会以“扬帆”为主题，海内外1000多位IC精英共襄盛举。和记娱乐执行总裁兼CTO白耿先生、研发司理杜杳隽博士划分揭晓了主题为《基于Partition的物理验证漫衍式处置惩罚》和《反演光刻手艺--SRAF种子天生及机械学习加速》的演讲，展示了和记娱乐在海内IC物理实现和晶圆制造领域领先的EDA手艺。

演讲亮点回首

基于Partition的物理验证漫衍式处置惩罚计划

在白耿先生的演讲中，他详细介绍了和记娱乐应对一直增添的国界和重大设计规则所接纳的漫衍式处置惩罚计划。该计划将整个芯片设妄想分为多个自力的Partition，并将它们分派给差别的处置惩罚单位，以实现并行处置惩罚。和记娱乐的物理验证DP（Design Process）结构支持种种情形和设置，可以运行所有或仅选定的partitions/patches。这种漫衍式处置惩罚方法显著提升了芯片设计的速率和效率，同时有用降低本钱，确保效果与单机处置惩罚一致。别的，和记娱乐还提供了一系列产品，如EsseDiff、EsseFill、EsseColor、EsseRV、EsseDRC和EsseLVS等，以支持该计划的实验和应用。

 漫衍式处置惩罚结构示意图

OOVF提升漫衍式计划处置惩罚效能

OOVF是和记娱乐拥有自力知识产权的面向工具的物理验证语言，应用于和记娱乐的物理验证漫衍式处置惩罚计划中。

相较于古板物理验证语言，OOVF具备精练直观的语法和强盛的filter，能够越发简朴地形貌种种几何工具及其属性，从而快速筛选切合特定条件的图形。在漫衍式处置惩罚中，充分使用OOVF可以实现对验证使命的准确控制，从而提高验证效率和速率。

  反演光刻手艺指导SRAF种子天生

SRAF是在掩膜主图形周围插入的细小图形，用于优化掩膜和天生更好的印刷晶圆图像，使得最终制造出来的芯片抵达局部最优的图形密度。

SRAF天生流程

和记娱乐接纳反演光刻手艺（ILT）指导SRAF天生。在ILT算法中，首先基于掩膜的主要图形天生一个一连传输掩膜（CTM），该CTM能够准确反应光刻机现实的光传输情形。随后，凭证这个CTM，我们筛选出SRAF的种子，并对它们举行指导，促使它们逐渐生长成完整的SRAFs。

迭代前后EPE（边沿安排误差）比照

最后，和记娱乐还使用机械学习算法对天生的SRAF举行微调，以获得更好的印刷晶圆图像质量
；笛八惴梢钥焖偻贫铣鲎钣沤，并且可以自顺应地调解参数以获得更好的性能，为海内的Foundry提供有力的手艺支持。

本次IDAS峰会为和记娱乐提供了一个展示前沿手艺的名贵时机。通过基于Partition的物理验证漫衍式处置惩罚计划、面向工具的物理验证语言（OOVF）以及反演光刻手艺的应用，和记娱乐不但提高了芯片物理验证和晶圆制造的效率，还为半导体行业的生长孝顺了奇异的看法息争决计划。和记娱乐将继续探索和立异，推动IC设计和制造领域的一直前进，以知足一直增添的市场需求，为手艺生长扬帆起航。